简述洁净车间一旦受到粒子污染该如何解决
洁净车间的浮游微粒子浓度，使用高效过滤器即可容易达到零水平，实际的生产现场由于作业者、机器、周边机械的发尘及基板运送时所接触的零件材料的发尘等，在制造品周边扬起了少许的微粒子，因而造成了元件清洁面的粒子污染。 想要在洁净室内不携入微粒子的方法有：作业员进入洁净室前，机台、零件携入前应进行清洁处理;进入洁净车间的人员在更衣室要穿着不发尘、不产生静电的具特殊导电性纤维材质的无尘服、帽、鞋、手套、口罩等。通过风淋室时利用高速干净空气除去附在衣服表面的粒子后，才能进入洁净室。机器及材料带进洁净室前，应尽可能在密封状态下带进洁净室前室保养后用超纯水擦拭，经风淋室吹淋后才进入洁净室。洁净室中须全程穿戴密闭式安全帽及佩戴附有排气用小型于腰间。 若能彻底实施不携入技术，洁净室内的洁净度就可以维持。但现实中人和物品的频繁出入及制造机台的掣动，在广大的洁净室内要有完全洁净度是不可能的。因此洁净车间的不储备技术快速地在过滤器中应用以除去已发生的微粒子变得非常重要。通常已发生的微粒子会依据重力及静电吸附力而停留在周边的物体表面。突发性的振动及不稳定的气流会使这些累积微粒在空气中再度扬起，增加了重大微粒子污染的危险性。
净化车间主要的作用是什么
主要功能的净化车间是控制产品(如硅等)暴露于清洁、温度和湿度的大气，可以使产品在良好的生产环境和制造空间，这个空间我们称之为净化车间。根据国际惯例，除尘水平主要是根据每立方米空气中颗粒的数量。也就是说，无尘并不是百分之百的尘埃，而是被控制在非常少的单位里。 当然，相对于我们普通粉尘标准的粉尘微粒标准很小，但对于光学结构来说，即使只是一点点灰尘也会产生非常负面的影响，所以在生产的光学结构中，无尘净化车间是不可避免的要求。 每立方米小于0.3微米的粉尘颗粒的数量控制在3500的水平，达到国际无灰尘标准的水平。目前，晶片级处理的无尘标准比A级标准高，主要用于高等级芯片的生产。5亩和以下的微尘量严格控制在1000单位每立方米，被称为行业1K水平。
